질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92216 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76685
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57159
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68680
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92216
587 Tungsten 표면 Contamination 제거(실명재등록) [1] 970
586 Sticking coefficient 관련 질문입니다. [1] 978
585 anode sheath 질문드립니다. [1] 979
584 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 991
583 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] 997
582 Si 표면에 Ar Plasma Etching하면 안되는 이유 [1] 999
581 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 1003
580 고진공 만드는방법. [1] 1006
579 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 1011
578 langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [1] file 1012
577 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] 1020
576 Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] 1028
575 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1029
574 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 1036
573 플라즈마 코팅 [1] 1036
572 Plasma Arching [1] 1039
571 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1045
570 Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 1046
569 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1047
568 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1052

Boards


XE Login