안녕하세요

반도체쪽에서 일하는 직장인 입니다.

다름이 아니라 CVD공정 양산 설비 Depo시 간헐적으로  Plasma On시 초기 2초간 Reflect가 발생하더라구요...

이와 관련하여 해당 Chamber Issue로는  Plasma On시 Load 값 Issue가 있어 Matcher교체 하였구요. 

이 후 동일 문제로 RF Filter 교체 하였고 접지Cable Resetting 하였고 Heater 교체도 하였습니다.

이 후에 초기 Reflect가 발생 하였다는 것을 알게 되어 초기 Reflect 관련 문제를 해결하려고 하는데

아직 정확한 원인을 찾지 못하여 이렇게 많은 분들께 조언 구합니다.

실제 Fab에서 양산 설비이기 때문에 Gas 유량, 압력, 동축 Cable 길이 등은 다른 양산 설비와 동일 하구요. (실제 확인도 하였습니다.)

Generator에서 인가되는 Power도 문제 없는 것을 확인하였습니다.

추가로 어떤 부분을 확인하면 도움이 될 지 많은 분들의 조언 부탁드립니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
583 CCP Plasma 해석 관련 문의 [1] file 972
582 아래 382 번 질문에 대한 추가 질문 드립니다. [1] 982
581 전자 온도에 대한 질문이 있습니다. [1] 999
580 고진공 만드는방법. [1] 1001
579 RF Antena와 Matcher 間 상관관계 문의드립니다. [1] 1001
578 DC Magnetron Sputter 플라즈마 진단 [1] 1007
577 langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [1] file 1009
576 Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] 1017
575 Plasma Arching [1] 1024
574 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1025
573 전자밀도 크기에 대하여 질문드립니다. (Ar, O2, N2 가스) [1] 1025
572 etch defect 관련 질문드립니다 [1] 1026
571 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 1028
570 플라즈마 코팅 [1] 1032
569 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 1039
568 Decoupled Plasma 관련 질문입니다. [1] 1040
567 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1043
566 RIE 장비 사용 중 dc-bias의 감소 [1] 1045
565 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 어떤 이유들이 있을까요..? [2] 1054
564 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] file 1058

Boards


XE Login