Plasma in general RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상
2018.11.22 16:01
안녕하세요. 투명전극을 주제로 실험 및 공부를 하고 있는 학생입니다.
다름이 아니라 저희 연구실에서 sputter장비를 set up하고 있는데 해결을 못하고 있는 문제가 있어서 조언을 요청드립니다.
RF magnetron sputtering 장비이며 4in target 4ea 가 장착되어있는 chamber인데, RF파워 인가시, 초기에 plasma가 발생하였다가 reflect가 올라가면서 불안정적으로 변하면서 완전히 꺼지는 현상이 있습니다. chamber open후 target상태를 보면 target마다 다르지만 erosion track이 비 정상적으로 좁고 깊게 파이거나 damage를 입은것을 확인할 수 있습니다.
초기엔 target gun 의 magnet flux를 의심하였는데 타 회사의 gun에서도 비슷한 경향이 나타나고 있습니다.
1.혹시 matcher에서 mismatch가 발생하면서 이러한 현상이 발생할 수 있나요?(있다면 왜 plasma on초기부터 발생하지 않고 나중에 발생하는지 이유를 알 수 있을까요?
2.혹시 제가 고려하지 못한 다른 제어 요소가 있는지 여쭤보고 싶습니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76727 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20183 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57167 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68699 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92278 |
569 | ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다. | 16946 |
568 | 플라즈마 처리 | 16932 |
567 | ICP 식각에 대하여... | 16916 |
566 | Virtual Matchng | 16853 |
565 | sputter | 16845 |
564 | nodule의 형성원인 | 16757 |
563 | 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] | 16654 |
562 | 몇가지 질문있습니다 | 16578 |
561 | CCP 의 electrode 재질 혼동 | 16485 |
560 | 플라즈마의 어원 | 16334 |
559 | 궁금해서요 | 16315 |
558 | 궁금합니다 [1] | 16177 |
557 | 공정검사를 위한 CCD 카메라 사용 | 16067 |
556 | 플라즈마로 처리가 어떻게 가능한지 궁금합니다. [1] | 16035 |
555 | 핵융합과 핵폐기물에 대한 질문 | 16023 |
554 | 역 수소폭탄에 대하여... | 16009 |
553 | k star | 15955 |
552 | ICP TORCH의 냉각방법 | 15919 |
551 | corona | 15886 |
550 | Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? | 15885 |
스퍼터 문제에 대해서 아마도 군산대학교 주정훈교수님께 문의하시면 좋을 답변을 얻으실 수 있을 것 같습니다. 문의드려 보시고, 얻게되는 답변이 있으면 본 란에 댓글로 올려 주시면 고맙겠습니다.