Etch 식각 시 나타나는 micro-trench 문제

2019.03.28 15:12

안골 조회 수:1946

안녕하세요? 식각에 관해 공부하고 있는 대학원생입니다.


요즘 plasma etching 에 관한 리뷰를 보는 중 식각 시 나타나는 etch profile의 distortion에 관해서 써놓은 내용을 보았습니다.

특히, Si 공정 중 micro-trench 현상이 일어나고, 그대로 소자가 만들어 졌을 때에 소자 상에서 어떤 문제가 일어나는지 궁금합니다. 

리뷰에 달린 참고문헌을 봐도 distortion에 대한 메커니즘만 설명되어 있고, 실제 소자상에서는 어떤 문제가 있는지 다뤄지지가 않아 너무 궁금합니다...

혹시 이에 대한 문헌이나, 참고할만한 자료가 있으면 답변 부탁드리겠습니다.

감사합니다.


참고한 문헌 : Donnelly, V. M., & Kornblit, A. (2013). Plasma etching: Yesterday, today, and tomorrow. Journal of Vacuum Science & Technology A: Vacuum, Surfaces, and Films31(5), 050825.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76538
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
563 플라즈마볼 제작시 [1] file 2214
562 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2565
561 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 542
560 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3308
559 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16645
558 알고싶습니다 [1] 1438
557 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2285
556 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 923
555 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 745
554 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2805
553 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1437
552 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2451
551 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 672
550 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1586
549 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [2] 4361
548 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1107
547 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] 10370
546 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2386
545 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 878
544 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3671

Boards


XE Login