안녕하세요. 반도체 회사에서 근무하고 있는 엔지니어 입니다.

최근 설비이슈로 rf tune position 상승의 문제가 있는데 load는 변동이 없는데 유독 tune position만 상승합니다. 이때 Vrms는 tune과 반비례로 하강하는 trend를 보이는데, 


1. tune과 Vrms 의 상관관계가 어떻게 되나요?

2. 유독 tune이 상승하는 원인을 어디서부터 찾아야 할까요?


바쁘신 와중에 항상 도움을 주셔서 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76714
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20170
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68696
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92273
568 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [1] 1483
567 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1156
566 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5520
565 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 843
564 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1703
563 플라즈마볼 제작시 [1] file 2234
562 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2579
561 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 546
560 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3322
559 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16653
558 알고싶습니다 [1] 1456
557 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2312
556 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 947
555 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 753
554 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2816
553 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1441
552 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2472
551 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 695
550 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1597
549 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [3] 4484

Boards


XE Login