안녕하십니까 플라즈마 입문단계를 공부하고 있는 전기공학과 학생입니다.

다름이 아니라 공부를 하는 중에 플라즈마 소스 부분에 직류 글로우 방전에서 r-process 부분에서 2차 방출이 일어나는데

여기서 이차전자가 이온화를 잘시키는 것으로 알고 있습니다. 하지만 이온은 그에 비해 잘 시키지 못한것 같습니다

정리하자면 플라즈마에서 이온은 전자에 비해 중성종을 이온화시키기 어려운 이유가 무엇일까요?

기본적인 내용인데 많이 부족해서 모르겠습니다.

부탁드립니다!! 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76692
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57159
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68681
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92218
567 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1152
566 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5509
565 연면거리에 대해 궁금합니다. [1] 842
564 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [1] 1701
563 플라즈마볼 제작시 [1] file 2232
562 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2575
561 Bais 인가 Cable 위치 관련 문의 [1] 546
560 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3318
559 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] 16648
558 알고싶습니다 [1] 1450
557 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 2307
556 Shield 및 housing은 ground 와 floating 중 어떤게 더 좋은지요 [2] 942
555 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다 [2] 751
554 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2812
553 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1440
552 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2466
551 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다 [1] 693
550 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [1] file 1596
549 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [3] 4474
548 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1118

Boards


XE Login