질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
2010.11.25 15:38
플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.
댓글 3
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [179] | 74885 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 18736 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 56224 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 66686 |
» | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 88009 |
498 | sputter | 16786 |
497 | Virtual Matchng | 16776 |
496 | ICP 식각에 대하여... | 16767 |
495 |
ESC Chuck Pit 현상관련 문의 드립니다.
![]() | 16698 |
494 | nodule의 형성원인 | 16630 |
493 | 몇가지 질문있습니다 | 16550 |
492 | 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [2] | 16387 |
491 | CCP 의 electrode 재질 혼동 | 16323 |
490 | 궁금해서요 | 16295 |
489 | 플라즈마의 어원 | 16278 |
488 | 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [1] | 16243 |
487 | 궁금합니다 [1] | 16132 |
486 | 공정검사를 위한 CCD 카메라 사용 | 16010 |
485 | 핵융합과 핵폐기물에 대한 질문 | 16008 |
484 | 역 수소폭탄에 대하여... | 15981 |
483 | k star | 15936 |
482 | 플라즈마로 처리가 어떻게 가능한지 궁금합니다. [1] | 15904 |
481 | ICP TORCH의 냉각방법 | 15848 |
480 | corona | 15828 |
479 | Sputtering 중 VDC가 갑자기 변화하는 이유는 무엇인가요? | 15800 |