안녕하세요, 한국기술교육대학교에서 석사과정중인 최인규입니다.


현재, Plasma 상태에서의 분자와 기판의 반응을 시뮬레이션을 통해서 모사해 보려고 하고 있습니다.


다만 현재 N 플라즈마 상태에서, N이 어떠한 형태로 존재하는지 알지 못하고 있습니다. 


H 플라즈마의 경우에는 I. Mendezet al , J. Phys. Chem . Rev . A 110 2006 ) 6060 6 논문을 참고하여, 


H 원자 형태로 가장 많이 존재하며 그 이후로 H3+, H+, H2+ 순으로 구성되어있다고 하는데,


N 플라즈마의 경우 대부분이 N+ / N2+ 의 비율로만 보여주고 있어 어려움이 있습니다.


혹 N이 이온이 아닌 원자 형태로 존재하는지, 존재를 한다면 N+, N2+ 대비 얼마나 존재 할지 궁금하여 질문드립니다.


감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76540
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91696
543 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 469
542 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2229
541 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1734
540 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3616
539 플라즈마 살균 방식 [2] 11415
538 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1365
537 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2341
536 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 425
535 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1072
534 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3114
533 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6428
532 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1234
531 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2346
530 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1878
529 질문있습니다 교수님 [1] 22003
528 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1697
527 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 438
526 remote plasma 데미지 질문 [1] 14428
525 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1889
524 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1193

Boards


XE Login