Etch DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다.

2018.11.28 12:00

최균호 조회 수:2313

안녕하십니까

저는 DRY Etch 하부 정전척(ESC) 세정/재생 업체에 다니고 있는 최균호 라고 합니다.

고객사에 납품하여 Run중인 ESC에서 He Flow라는 알람이 자주 발생하여 문의 드립니다.

상부 Glass면과 ESC 사이에 Cooling을 위한 He Gas를 공급하는데

공급 과정 중 He Pressure의 이상이 있을 때 발생하는 것이 He Alaram 입니다.

He Flow 발생품 입고 검사 시 Glass를 안착시키는 Dam부 및 Cooling 면의 외관적인 문제점은 존재 하지 않고

전기적인 특성조차 큰 특이점을 찾아 볼 수 없습니다.

고객사 측에서도 뚜렷한 원인은 알 수 없다고 하네요.


Cooling Gas Flow (Gas Leak) 발생 원인이 대체로 무엇인지, 그에 따른 해결 방안을 가지고 계신다면

알려 주실 수 있을까요?

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76713
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20169
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68693
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92269
548 Vacuum Chamber(Etching) 내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계. [2] 1120
547 플라즈마 PIC 질문드립니다. [1] 10377
546 [RIE] reactive, non-reactive ion의 역할 [1] 2450
545 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [1] 888
544 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3746
543 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [1] 484
542 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 2258
541 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1790
540 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3694
539 플라즈마 살균 방식 [2] 11446
538 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [1] 1376
537 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [1] 2386
536 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [1] 433
535 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [1] 1086
534 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [2] 3188
533 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6434
532 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1241
531 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2377
530 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1905
529 질문있습니다 교수님 [1] 22113
쓰기
태그

Boards

XE Login