안녕하십니까? 김길호 입니다.

모노실란 분해 메커니즘을 문의하고자 합니다.

 

질문 1)

SiH4-Ar-H2 시스템에서

저온 플라즈마 시스템에서의 SiH4 분해 메커니즘 및

고온 플라즈마 시스템에서 SiH4 분해 메커니즘의 차이가 있을 수 있는지 궁금합니다..

 

제가 조사한 문헌에 의하면 SiH4 분자들이 플라즈마 영역에서

다양한 이온상태 (SiH3+, SiH+, Si+, SiH2+)로 존재하는 것으로 알고 있습니다.

위와 같은 이온 상태로 해리는 저온 플라즈마에서만 발생하고,

고온플라즈마 시스템 에서는 (SiH4àSi+2H2)로 실리콘 원자와 수소 분자로

해리될 수 있는지 궁금합니다.

 

질문 2) 만약 고온 플라즈마에서 SiH4 분자들이 실리콘 원자와 수소 분자들로 해리된다면

       (SiH4àSi+2H2), 실리콘 원자들이 고온 플라즈마 영역에서 Vapor 상태로 존재한 후

       온도가 낮아지면 액상(liquid) 또는 고상(Solid)으로 상 전이가 일어날 수 있는지

       궁금합니다.

 

질문 3) SiH4 분자들이 플라즈마 영역에서 이온상(SiH3+, SiH+, Si+, SiH2+)으로 존재한다면,

       플라즈마 영역을 지나면 위 이온들은 이온상을 계속 유지하는지 아니면 전자와 결합하여

        분자로 존재하는지 궁금합니다.
번호 제목 조회 수
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 48660
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 50558
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [1] 56135
329 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 4175
328 3-body recombination 관련 문의드립니다. [2] 499
327 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 2587
326 핵융합 질문 [1] 282
325 Dusty Plasma의 진단에 관해서 질문드립니다. [1] file 360
324 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [1] 1242
323 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 1667
322 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 806
321 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 999
320 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 2737
319 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 3424
318 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 2676
» 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 2641
316 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 1426
315 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 1708
314 Ar plasma power/time [1] 943
313 RPSC 관련 질문입니다. [2] 1803
312 안녕하세요 반도체 공정 중 용어의 개념이 헷갈립니다. [1] 5326
311 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1083
310 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 4358

Boards


XE Login