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544 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 1154
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542 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1158
541 Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] 1164
540 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1173
539 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1179
538 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 1184
537 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] 1210
536 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1216
535 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1223
534 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1230
533 플라즈마 챔버 [2] 1233
532 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1235
531 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1240
530 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1240
529 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1259
528 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1268
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