Others O2 플라즈마 클리닝 관련 질문

2018.04.07 12:33

이도윤 조회 수:1550

안녕하세요.

대학원에서 실험을 하고 있는 대학원생입니다.

현재 Ge, Si wafer와 같은 여러가지 기판에 증착된 300nm Ni film을 thermal release tape를 이용하여 떼어낸 뒤, Si/SiO2 기판으로 전사하여 가열해 줌으로써 thermal tape를 제거하는 작업을 하고 있습니다.

tape를 제거한 뒤에 Ni 표면에 tape 잔여물들이 많이 남아 있어서 O2 플라즈마로 잔여물을 제거하려 하고 있는데요.

이상하게도, 전사 과정에서 Si/SiO2 기판에 묻어있던 tape 잔여물들은 1시간 이내에 완전히 제거가 되는데 Ni 표면에 있는 tape 잔여물들은 같은 조건에서 4시간 이상까지 플라즈마 처리를 하여도 잔여물이 전혀 줄어들지를 않습니다.

원인과 해결 방법을 알 수 있을까요??

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76542
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
543 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1144
542 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 1145
541 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1147
540 O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 file 1147
539 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1159
538 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1173
537 RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] 1176
536 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1194
535 micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] 1205
534 플라즈마 챔버 [2] 1208
533 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1211
532 RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] 1216
531 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1232
530 Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] 1234
529 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] 1250
528 ICP Chamber Type의 Belljar Arcing관련 문의드립니다. [2] 1267
527 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 1268
526 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [1] 1268
525 플라즈마 기초입니다 [1] 1279
524 [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] 1287

Boards


XE Login