Sheath 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문
2020.05.06 19:33
안녕하세요.
대학원에서 플라즈마에 대해 공부하고 있습니다.
플라즈마 생성 후 절연체를 넣고 쉬스가 생성된 후에
플라즈마에서 기판으로 갈 때 전자는 지수적으로, 이온은 선형적으로 감소한다고 하는데
그 이유가 궁금합니다.
댓글 1
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76727 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20189 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57167 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68699 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92278 |
549 | 공정플라즈마 [1] | 1145 |
548 | 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] | 1156 |
547 | O2 etch 후 polymer 변성에 관한 문의 | 1156 |
546 | RPSC 시 Pressure와 Throttle Valve Position의 관계 [1] | 1156 |
545 | 대학원 진학 질문 있습니다. [2] | 1157 |
544 | 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] | 1162 |
543 | Uniformity 관련하여 문의드립니다. [1] | 1167 |
542 | PECVD Cleaning에서 Ar Gas의 역활 [1] | 1172 |
541 | Plasma Ignition 시 Gas 사용에 대한 궁금증 요청드립니다. [1] | 1176 |
540 | ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] | 1178 |
539 | 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] | 1183 |
538 | RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] | 1191 |
537 | micro plasma에 사용되는 전력을 알고 싶습니다. [1] | 1220 |
536 | 반도체 관련 플라즈마 실험 [1] | 1223 |
535 | 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] | 1226 |
534 | 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] | 1237 |
533 | RF Power 인가 시 Gas Ramping Flow 이유 [1] | 1239 |
532 | 플라즈마 챔버 [2] | 1242 |
531 | Plasma etch관련 질문이 드립니다. [1] | 1243 |
530 | 임피던스 매칭 및 플라즈마 진단 [1] | 1270 |