개인정보 노출 주의 부탁드립니다.

2010.12.10 13:44

관리자 조회 수:50581 추천:86

1. 관련 : “공공기관의 개인정보보호에 관한 법률”, 중앙전산원-3921(2010.11.17)
2. 위 법률에서는 홈페이지의 구축∙운영하는 과정에서 개인정보가 노출 또는 유출 되지 않도록 관리적∙기술적인 안전성 확보를 강조하고 있습니다.
3. 또한, 개인정보 사고 발생 시 벌칙(최고 10년이하의 징역)과 양벌규정으로 처벌을 하도록 되어있어 개인정보와 관련 홈페이지 관리자의 세심한 주의와 관리가 필요합니다.
4. 최근 학내에서는 게시판 관리자의 관리소홀로 인한 홈페이지에 개인정보 노출 사고가 발생하는 등 지속적인 개인정보 관련 사고가 발생하고 있는바, 홈페이지를 운영하고 있는 전 기관은 개인정보가 홈페이지 게시판 및 서버에 존재하는지를 반드시 점검하여 삭제조치 바랍니다.

가. 대    상 : 학내에서 운영중인 홈페이지 전체  
나. 점검방법 : [붙임2] 참조 (미제출시 웹서비스가 차단될 수 있음)

5. 아울러, 향후 학내 전체 개인정보보호 계획 수립 시 규모산정 및 기초자료 활용을 위해 학내 홈페이지의 게시판 세부정보 조사를 병행하오니 적극적인 협조 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [102] 3671
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 15354
» 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 50581
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 63008
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 82183
429 안녕하세요 교수님. ICP관련하여 문의드립니다. [1] 1312
428 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1333
427 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 1344
426 ICP power와 ion energy사이의 관계에 대해서 문의드립니다. [2] 1345
425 플라즈마 관련 기초지식 [1] 1345
424 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [1] 1355
423 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1356
422 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1361
421 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 1383
420 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1393
419 질문있습니다. [1] 1399
418 etching에 관한 질문입니다. [1] 1402
417 다중 주파수를 이용한 플라즈마 식각에서 이온 에너지 제어 관련 [1] 1423
416 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1436
415 RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [1] 1438
414 터보펌프 에러관련 [1] 1446
413 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1490
412 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 1494
411 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1500
410 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1505

Boards


XE Login