안녕하십니까, 서울대학교 황농문교수님 연구실 김두윤이라고 합니다.

 저는 현재 RF plasma sputtering 공정을 연구하고 있습니다.

 박막 증착 공정을 진행하던 도중, 예상치 못한 증착 거동을 관찰하였습니다.

 이를 이해하기 위해, 기판에 오는 ion과 electron current, plasma potential 등을 측정하려고 시도하고 있습니다.

 그리고 관련 전문가의 도움을 받아, langmuir probe와 유사한 circuit을 '첨부한 사진'과 같이 구성하였습니다.

 제 circuit이 올바르게 구성되었는지에 대한 의문이 들어 질문을 올리게 되었습니다.

 사진을 보시면, 제 circuit은 일반적인 langmuir probe circuit과 조금 구성이 다릅니다.


1. probe 크기가 2cm x 2cm로 제가 사용하는 기판의 크기와 동일합니다. 기판에 오는 current를 측정하고 싶어, 일반적인 langmuir probe 탐침이 아닌, 기판과 동일한 크기의 probe를 사용하였습니다. 이 경우, 측정에 문제는 없는 것인지 의문이 듭니다.

    현재 Ti target에 1~2W/cm^2의 RF power density와 5~10mTorr (Ar) pressure를 사용하고 있으며, 기판은 target으로부터 13~14cm 가량 떨어져 있습니다.

2. Amperemeter를 chamber ground와 맞물렸습니다. 크게 상관은 없을 것이라 생각하지만, RF plasma를 사용하는 만큼 circuit 구성에 대한 문제는 없는 것인지 전문가의 조언을 듣고 싶습니다.


Lanmuir probe 사용이 처음이라 미흡한 부분이 많습니다. 플라즈마 전문가들의 조언을 얻을 수 있을까 하여 질문 드립니다.

감사합니다.


kdy9271@snu.ac.kr

김두윤 드림

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
523 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6380
522 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1143
521 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1232
520 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3858
519 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2176
518 Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. 17633
517 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1043
516 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3637
515 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 567
514 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 10223
513 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 790
512 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 734
511 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 19768
510 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 835
509 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3622
508 진학으로 고민이 있습니다. [2] 1025
507 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1210
506 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 2933
505 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 536
504 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1576

Boards


XE Login