안녕하십니까, 현재 플라즈마에 관하여 연구하고 있는 연구생입니다.

랭뮤어 프로브와 비슷하게 장치를 제작하여 실험을 하는 도중, current의 sign에 혼동이 와서 질문을 드리게 되었습니다.

보통 랭뮤어 프로브에 (+) bias를 가해주면 전자가 프로브에 들어오며, (-) bias를 가해주면 이온이 프로브에 들어오는 것으로 알고있습니다.

이러한 원리는 쉽게 이해가 가능합니다만, 전자가 프로브에 들어오는 경우 왜 I-V curve에서 +값으로 나타내는지 혼동이 됩니다.

만약 멀티미터로 전류값을 측정한다고 하면, 멀티미터의 red line을 프로브에 연결하여야 할 것인데, 위처럼 프로브에 전자가 들어오는 경우는 (-)값으로 나와야 하지 않나요?

정식 랭뮤어 프로브가 아니라 bias 장비와 멀티미터로 측정을 해야 하는 상황인데, 기본적인 세팅에 혼동이 와서 질문 드립니다.

감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76727
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20183
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68699
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92278
529 질문있습니다 교수님 [1] 22114
528 CVD품질과 RF Delivery power 관계 질문 [1] 1730
527 KM 모델의 해석에 관한 질문 [1] 446
526 remote plasma 데미지 질문 [1] 14457
525 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1914
524 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [1] 1286
523 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6576
522 산소 플라즈마 처리 관하여 질문드립니다. [1] 1162
521 플라즈마의 직진성에 관해 질문드립니다. [2] 1237
520 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3924
519 ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다. [1] 2234
518 Plasma Dechuck Process가 궁금합니다. 17672
517 HEATER 교체 이후 SELF BIAS 상승관련 문의 [1] 1056
516 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3688
515 간단한 질문 몇개드립니다. [1] 587
514 matcher에서 load,tune의 역할이 궁금합니다. [1] 10348
513 Si Wafer에 Plasma를 처리했을때 정전기 발생 [1] 800
512 Hollow Cathode glow Discharge 실험 관련해서 여쭤보고싶습니다. [1] file 758
511 에쳐장비HF/LF 그라운드 관련 [1] 19776
510 매쳐 출력값 검토 부탁 드립니다. [1] 839

Boards


XE Login