Deposition Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다.
2018.07.18 14:33
안녕하세요
반도체쪽에서 일하는 직장인 입니다.
다름이 아니라 CVD공정 양산 설비 Depo시 간헐적으로 Plasma On시 초기 2초간 Reflect가 발생하더라구요...
이와 관련하여 해당 Chamber Issue로는 Plasma On시 Load 값 Issue가 있어 Matcher교체 하였구요.
이 후 동일 문제로 RF Filter 교체 하였고 접지Cable Resetting 하였고 Heater 교체도 하였습니다.
이 후에 초기 Reflect가 발생 하였다는 것을 알게 되어 초기 Reflect 관련 문제를 해결하려고 하는데
아직 정확한 원인을 찾지 못하여 이렇게 많은 분들께 조언 구합니다.
실제 Fab에서 양산 설비이기 때문에 Gas 유량, 압력, 동축 Cable 길이 등은 다른 양산 설비와 동일 하구요. (실제 확인도 하였습니다.)
Generator에서 인가되는 Power도 문제 없는 것을 확인하였습니다.
추가로 어떤 부분을 확인하면 도움이 될 지 많은 분들의 조언 부탁드립니다.
감사합니다.
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현장에서 떨어져 있어 동문 서답이 될 수도 있겠습니다. 저희가 정합기의 구동 시간과 플라즈마 안정화 시간과의 mismatch가 생기면 플라즈마 on/off가 심한 경우가 될 수 있음을 경험한 바 있습니다. 이는 당연하게도 플라즈마가 생성되면서 반응기 전체에 퍼지고 벽이나 공간에서 전하 결합 반응으로 소멸되는 과정의 시간과 생성에 필요한 전력이 지속되는 시간이 맞지 않으면 생성/소멸의 불 균형이 일어날 수가 있을 것입니다. 따라서 PWR turn on에 따른 impedance의 변동을 matcher 제어기가 계산하고 load/tune position에 신호를 보내 주면 이에 따라서 step motor가 구동하게 되는 시간을 확인해 보는 것이 좋을 것 같습니다. 너무 민감하지 않아야 이 싯점을 넘어가기가 좋을 것 같은데, 그 정도를 설정하는데 어려움이 있을 것 같습니다. matcher 알고리즘을 한 번 살펴 보세요.