Others Shield 및 housing은 ground와 floating중 어떤게 더 좋은지요 [장비 ground]

2020.09.08 09:59

양심만세 조회 수:1150

안녕하세요. 장비회사에서 근무하는 양철훈 이라고 합니다.

궁금한 점이 있어 문의 드립니다.

 - DC sputter에서 스퍼터링 건에서 전원부 말고 Sheild나 housing는 전기적으로 ground가 좋은가요 floating 시키는 것이 좋은지요. DC에서는 상관없을 수도 있다는 생각이 들기도 합니다.

 - 동일 질문을 RF sputter의 경우에 하면 어떤 것이 더 좋은지요. RF에서는 charging 문제로 ground가 되어야만 할 것같다는 생각이 들기도 합니다.

어떤 것이 더 좋은지와 이 이유 답변 부탁드립니다.

감사합니다.

 

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [316] 82487
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21939
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58722
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70349
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96219
564 압력 변화와 Ch Impedance 상관관계 질문 [플라즈마 임피던스, 운전압력조절 방전 조건] [1] 1845
563 플라즈마볼 제작시 [전기장 형성 및 플라즈마 방전] [1] file 2389
562 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다.(챔버쪽 임피던스 검출) [플라즈마 특성과 장비 임피던스] [1] file 2699
561 Bias인가 Cable 위치 관련 문의 [플라즈마 분포 관찰] [1] 633
560 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [ONO 공정 중 질화막 모니터링] [2] 3442
559 좁은 간격 CCP 전원의 플라즈마 분포 논문에 대해 궁금한 점이 있습니다. [전력 인가와 플라즈마 밀도] [2] 16789
558 알고싶습니다 [Seasoning, 플라즈마 공정 및 부품 표면 특성 데이터] [1] 1627
557 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [Self bias 및 ICP E/H mode] [2] 2500
» Shield 및 housing은 ground와 floating중 어떤게 더 좋은지요 [장비 ground] [2] 1150
555 안녕하세요 OLED 증착 시 궁금한점이있어 문의드립니다. [플라즈마 확산 시간 및 표면 반응 시간 유지] [2] 866
554 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [웨이퍼 근방 쉬스 특성, Edge ring] [2] 2995
553 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 1531
552 안녕하세요. 교수님 ICP 관련하여 문의드립니다. [충돌 단면적 및 반응 계수] [2] 2583
551 접착력을 위한 플라즈마 처리 관련 질문입니다. [플라즈마 소스 변경] [1] 801
550 전극에 따른 힘의 크기 질문드립니다. [웨이퍼 bending] [1] file 1742
549 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [Arc 형성 조건] [3] 5016
548 Vacuum chamber(Etching)내에서 열의 이동과 Byproduct 이동과의 관계 [Plasma bulk Temp와 wall Temp] [2] 1258
547 플라즈마 PIC 질문드립니다. [PIC simulation] [1] 10483
546 [RIE] reactice, non-reactice ion의 역할 [Dissociation과 Ar plasma] [1] 2819
545 O2 Asher o-ring 문의드립니다. [Plasma heat와 dissociation] [1] 1036
쓰기
태그

Boards

XE Login