안녕하세요 반도체 회사에 근무하고 있는 회사원입니다.

RF Power 를 이용하여 Film을 Deposition 하는 부서에 있는데요,

주요 관리 항목 중에 RF Vpp 항목이 있습니다.

RF Vpp 관련해서 문의드릴게 있습니다.


1. Ti Film을 RF Power를 이용하여 Dep하는데, Chamber 내부에 Ti Film이 더 많이 Depo 되면 RF Vpp는 조금씩

    떨어지는데 왜 그런건지 알 수 있을까요?

    업체에서는 Vpp와 Vdc가 반비례 관계여서 Vpp는 떨어지고, Vdc가 올라가게 된다고 하는데

    실상은 Vpp와 Vdc는 모두 떨어지는 Trend를 보이고 있습니다.


2. 두 번째로 Chamber의 RF Ground 역할을 하는 Stage Heater를 교체했는데,

    이전보다 RF Vpp Level이 떨어졌습니다. 무슨 연유에서 그런건지 모르겠는데 Ground가 바뀐 것만으로도 Vpp가 떨어질 수 있을까요?


설명이 부족하지만 도움 부탁드리겠습니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76543
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
503 Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [1] 9510
502 에칭후 particle에서 발생하는 현상 9497
501 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 9259
500 진공챔버내에서 플라즈마 발생 문의 [1] 9196
499 안녕하세요 교수님. [1] 8994
498 RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] 8957
497 Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] 8904
496 수중플라즈마에 대해 [1] 8720
495 ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] 8660
494 N2 환경에서의 코로나 방전을 통한 이온생성에 대한 질문입니다. [1] file 8601
493 Lecture를 들을 수 없나요? [1] 8575
492 Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. 8568
491 Microwave 장비 관련 질문 [1] 8561
490 핵융합에 대하여 8561
489 Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] 8560
488 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] 8124
487 플라즈마 발생 억제 문의 [1] 8114
486 고온 플라즈마 관련 8090
485 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 8037
484 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] 8023

Boards


XE Login