glass에 hydrophilicity를 위해 airplasma 처리기를 사용하고 있는 이조한 학생입니다.

airplasma를 처리하면 OH- 기가 glass 표면에 붙고, 또 표면을 태워서 물리 화학적으로 친수성 표면을 만드는 것으로 알고있습니다. -제가 아는것이 맞는지도 궁금하여 질문드립니다.

 

제가 궁금한것은 glass에 다른 화학코팅(PLL ( poly L lysine : glass를 + charge로 만들어주는 코팅)을 한 후 airplasma 처리를 하면 그 화학코팅한것들이 다 날라가는 것인지 궁금하여 질문드립니다. 

 

감사합니다

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [313] 79250
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 21265
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58066
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 69623
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 94413
543 자외선 세기와 결합에너지에 대해 질문드립니다. [UV energy] [1] 568
542 Dry etch 할 때 센터와 사이드 etch rate [Plasma diffusion과 distribution] [1] 2487
541 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [Lorentz force와 magnetic confinement] [1] 2155
540 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [Plasma source와 loss] [3] 4049
539 플라즈마 살균 방식 [Plasma medicine] [2] 11642
538 Matcher의 효율에 대한 내용에 대해서 궁금합니다. [Matcher와 dynamic impedance] [1] 1514
537 RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY [LF와 Sheath] [1] 2685
536 H-field 측정위치에 따른 H Field MAP 변화 관련 [ICP와 H field] [1] 510
535 Dechucking과 He gas의 관계 질문입니다. [Chucking/dechucking 파티클 제어] [1] 1176
534 Matcher의 Load/Tune Position 거동에 관해 질문이 있습니다. [Plasma impedance와 Matcher] [2] 3515
533 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [Chemical reaction과 pressure] [1] 6553
532 Plasma etch 관련 질문이 드립니다. [Sheath와 uniformity] [1] 1354
531 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [Etch와 remote plasma] [1] 2548
530 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [Floating sheath] [1] 2052
529 질문있습니다 교수님 [Deposition] [1] 22498
528 CVD품질과 RF Delibery power 관계 질문 [RF power와 plasma information] [1] 1929
527 KM 모델의 해석에 관한 질문 [Self bias와 ambipolar diffusion] [1] 519
526 remote plasma 데미지 질문 [DC glow discharge와 Breakdown] [1] 14607
525 RF generator 관련 문의드립니다 [Matcher와 line damage] [3] 2093
524 Wafer Warpage에 따른 CCP Type Chamber 내부 Impedance [ESC와 Chamber impedance] [1] 1491

Boards


XE Login