Plasma Source Plasma Generator 관련해서요.
2018.10.24 11:25
안녕하세요.
플라즈마 관련 직종에서 근무하고 있는 초보 직장인입니다.
한가지 질문 드릴게 있어서요,
Generator 하나를 사용하는데 Cable을 분기 시켜서
두개의 matching box로 가게 가능 할까요?
즉 Generator 하나를 사용하여 각각 다른 위치에 존재하는 Part를 클리닝 하고 싶어서요.
이게 실제 이론적으로 회로상으로 Relay를 줘서 분기 시켜서
어쩔때는 Mater1으로 가고, 어쩔때는 Matcher2로 가는게 가능할까요?
관련 내용을 찾다가 갑자기 궁금해서 질문 드립니다.
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76727 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20184 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57167 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68699 |
| 공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92278 |
| 509 | ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] | 3646 |
| 508 | 진학으로 고민이 있습니다. [2] | 1030 |
| 507 | 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] | 1226 |
| 506 | Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] | 2972 |
| 505 | 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] | 542 |
| 504 | ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] | 1600 |
| 503 | 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] | 1934 |
| 502 | Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] | 11320 |
| 501 | Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] | 2315 |
| 500 | 공정플라즈마 [1] | 1145 |
| 499 |
임피던스 매칭회로
[1]  | 2804 |
| 498 | 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] | 550 |
| 497 | CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] | 1688 |
| 496 | glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] | 1506 |
| 495 | plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] | 3383 |
| 494 | 대학원 진학 질문 있습니다. [2] | 1157 |
| 493 | 질문있습니다. [1] | 2571 |
| 492 | chamber impedance [1] | 2009 |
| 491 | PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] | 3273 |
| 490 | 플라즈마 관련 기초지식 [1] | 2128 |
가능하지 않을 이유가 없을 것 같습니다만, matcher 동작이 매우 어색할 것 같고, 공정 제어에 matcher의 성능은 매우 중요한 인자이므로 metcher 반응을 늦게 만드는 요인은 가능한 제거하는 것이 좋을 것 같습니다.