질문하실 때 실명을 사용하여주세요.

2010.11.25 15:38

관리자 조회 수:92218 추천:380

플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76692
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57159
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68681
» 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92218
507 플라즈마 형성시 하전입자의 밀도와 챔버에 관련해서 질문드립니다. [2] 1224
506 Gas flow rate에 따른 etch rate의 변화가 궁금합니다. [1] 2961
505 전자기장 및 유체 시뮬레이션 관련 [1] 540
504 ICP reflecot power 관련 질문드립니다. [1] 1594
503 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1927
502 Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] 11285
501 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2307
500 공정플라즈마 [1] 1145
499 임피던스 매칭회로 [1] file 2801
498 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] 550
497 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1686
496 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1502
495 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3366
494 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1154
493 질문있습니다. [1] 2568
492 chamber impedance [1] 2007
491 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3262
490 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2117
489 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 5058
488 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 1370

Boards


XE Login