안녕하세요. 전남대학교 정세훈이라고 합니다.
몇가지 궁금한점이 있어 질문드립니다

a)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 500 eV.

b)       the typical energy of sputtered Cu atoms if the Ar ion has an energy of 5000 eV

Cu원자의 에너지값이 어떻게되나요? 여러논문을 검색해보았는데
thompson distribution E/(E+Eb) 에 대해서는 나오는데.. 계산이 잘 안돼서요..
--------------------
위의 질문에 대한 참고 자료를 군산대학교 주정훈교수님께서 올려 주셨습니다. 그림과 같이 Kr 입자 조사에 의한 스퍼터링된 Cu의 에너지 및 이탈 속도 함수를 보여주고 있습니다. Ar과 조사 입자의 질량 차이가 있을 뿐 이를 고려한다면 거의 현상은 유사할 것으로 판단됩니다. 이 자료는 교재에 있다고 하니 참고하시기 바랍니다. 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [85] 2301
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 12788
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49615
» kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61092
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 78803
379 Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] 783
378 고진공 만드는방법. [1] 721
377 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 313
376 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 432
375 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 635
374 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 350
373 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 528
372 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 3541
371 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2361
370 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 2454
369 활성이온 측정 방법 [1] 377
368 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1025
367 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 1462
366 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1260
365 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 1832
364 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1287
363 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1448
362 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 566
361 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 706
360 플라즈마에서 가속 전압 또는 RF 파워 관련 질문드려요. [1] 826

Boards


XE Login