안녕하세요 Etch 공정 담당하는 회사원입니다~

장비 Idle 상태에서 Dummy 이용하는데 과학적으로 왜 쓰는지 정확하게 이유를 알고싶습니다..

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [88] 2680
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 13895
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 49822
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 61766
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [2] 80448
380 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 3686
379 Plasma 에서 Coupled (결합) 의 의미 [1] 793
378 고진공 만드는방법. [1] 747
377 PDP 방전갭에 따른 휘도에 관해 질문드려요 [1] 321
376 플라즈마 절단시 C와 N의 결합가능성 [2] 470
375 플라즈마 진단에서 rogowski 코일 관련 질문 드립니다. [1] 668
374 Tribo-Plasma 에 관해서 질문드리고 싶습니다. 362
373 코로나 전류에 따른 발생되는 이온의 수와, 하전에 영향을 미치는 요소에 대해서 질문드립니다 [1] 539
372 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 3659
371 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2385
370 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 2505
369 활성이온 측정 방법 [1] 392
368 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1066
» Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 1500
366 ICP와 CCP에서의 Breakendown voltage [1] 1294
365 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 1848
364 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1317
363 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1467
362 DBD Plasma Actuator 원리에 대한 질문입니다. [1] 583
361 안녕하세요 텅스텐 에치에 대해 질문드리겠습니다. 723

Boards


XE Login