안녕하세요~.

저는 KIST에서 고분자 나노패턴을 연구하고 있는 손정곤 입니다.

RIE를 사용하면서 항상 블랙박스와 같이 루틴하게만 에칭을 위해 사용하고는 했는데, 궁금한 점이 있어 질문 드리게 되었습니다.

RIE 시에 형성되는 플라즈마로 인하여, 일반적인 substrate에는 

1. 플라즈마로 인한 E-field가 걸리는 곳에 이온화된 기체 원자가 직접 부딪히며 생기는 효과와

2. reactive한 radical 형태의 중성 입자가 날라와서 반응하는 효과,

2. 플라즈마로 인하여 형성되는 빛, 그러니까 plasma UV/vacuum UV (VUV) photoemissions로 생기는 효과

세 가지가 동시에 영향을 미칠 것으로 생각됩니다. 

이 경우에, 3번의 형성되는 빛으로 인한 효과는 막으면서 1,2 번의 ion과 radical의 효과만 얻는 방법이 있을 지 궁금합니다.

개인적인 생각은 grating mask(complementary filter?)를 교차로 설치하여 빛의 투과는 막으며 이온과 라디칼은 흘러가서 샘플을 때리게 하고 싶은데, 

그렇다면 이 샘플위에 부양시켜 설치하려는 grating mask는 부도체여야 하는지 도체여야 하는지, 도체라면 아래의 RF 전극과 연결되어야 하는지, 아니면 grounding이 되어야 하는 지 등등이 궁금합니다. 

grating mask가 도체면 RIE의 geometry가 변형되어 e-field 등이 변하고 ion의 움직임도 변할 것 같아 질문드립니다.

여기에서 많은 것들을 배워갑니다. 감사드립니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76543
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20078
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57116
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91697
503 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1879
502 Arcing(아킹) 현상 및 local plasma 관련 문의 [1] 11081
501 Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다. [1] 2258
500 공정플라즈마 [1] 1136
499 임피던스 매칭회로 [1] file 2790
498 전쉬스에 대한 간단한 질문 [1] 543
497 CCP기반 power와 Etch rate 관계에 대해 여쭈어드립니다. [3] 1668
496 glow 방전 현상과 플라즈마 현상에 궁금하여 글 남깁니다. [2] 1476
495 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 3318
494 대학원 진학 질문 있습니다. [2] 1147
493 질문있습니다. [1] 2545
492 chamber impedance [1] 2003
491 PECVD Precursor 별 Arcing 원인 [1] 3189
490 플라즈마 관련 기초지식 [1] 2092
489 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 5022
488 [질문] Plasma 장비에 대한 Monitoring 질문 [2] 1363
487 Ion과 Radical의 이동 거리 및 거리에 따른 농도와 증착 품질 관련 [1] 725
486 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6254
485 EEDF, IEDF, Cross section관련 질문 [1] 1618
484 ICP, CCP 그리고 Ion Implantation 공정 관련 질문 드립니다. [1] 1159

Boards


XE Login