DC24V 를 분리된 2개의 전극에 가해, 플라즈마를 발생시키는 살균기를 개발하고 있습니다.

해답을 찾기가 너무 어렵워서요. 궁금한 것은,  

1) DC 전원 대신 AC 전원을 인가시켜 플라즈마를 발생시키려면 1000V 이상의 AC전원, 수십 kHz 의 고주파가 반드시 필요한지요?

2) 만약 1)과 같이 필요하다면 무슨 이유 때문인지요??

답변 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [234] 75754
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19439
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56665
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68001
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 90229
477 RPG Cleaning에 관한 질문입니다. [2] 1787
476 리모트 플라스마 소스 AK 부품 수출 관련 질문 입니다 반도체 장비 부풉ㅁ 971
475 안녕하세요 ICP dry etching 관련 질문사항드립니다! [1] 1753
474 PEALD관련 질문 [1] 32172
473 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 1896
472 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 3095
471 Plasma Etching 교재 추천 부탁드립니다.. [3] 1005
470 기판 위에서 Radical의 운동역학에 관하여 질문드립니다. [2] 622
469 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3699
468 VPS 공정에서 압력변수관련 질문입니다. [1] 405
467 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 2152
466 쉬쓰 천이지역에 관한 질문입니다. [1] 1111
465 Langmuir probe의 위치에 관한 질문입니다. [3] 1261
464 상압플라즈마 제품 원리 질문드립니다 [2] 916
463 식각 시 나타나는 micro-trench 문제 [1] 1755
462 plasma etching을 관련 문의드립니다. [1] 2357
461 Wafer particle 성분 분석 [1] 2217
460 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 2329
459 charge effect에 대해 [2] 1405
458 PECVD 증착에서 etching 관계 [1] 1332

Boards


XE Login