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공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66873
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437 N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다. [1] 1650
436 RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [1] 1677
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433 플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!? [1] 1710
432 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1722
431 [Etching 공정 중 wafer를 고정하기 위해 사용되는 Ring관련] [3] 1731
430 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1733
429 잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다. [1] 1738
428 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1742
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426 doping type에 따른 ER 차이 [1] 1748
425 DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] 1779
424 플라즈마 관련 기초지식 [1] 1780
423 고온의 플라즈마와 저온의 플라즈마의 차이 [1] 1781
422 Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate [1] 1787
421 RF matcher와 particle 관계 [2] 1814
420 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 1838
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