안녕하세요 OLED 증착 전 Plasma 전처리 장비를 다루고 있는 엔지니어 입니다.

GAS 주입후 RF 제너레이터에서 파워를 인가할때 최초 반사파또한 공급파워의 80%이상반사되는 현상이 발생중입니다.

Load Tune 값은 크게 변하지 않는 상태이며 최초 공급시 1sec 정도반사파가 크게 나타나다가 빠르게 안정화 되고 있습니다.

이러한 문제의 원인이 어디에 있는지 공부를해서 찾는중인데 쉽지가 않네요 도움주실만한 것이 있을까 해서 여쭙습니다.

좋은 하루 되세요.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20173
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57166
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68696
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92275
509 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [1] 1385
508 플라즈마 내에서의 현상 [1] 1388
507 수방전 플라즈마 살균 관련...문의드립니다. [1] 1394
506 dbd-플라즈마 질문있어욤!!!!! [1] file 1402
505 플라즈마 관련 교육 [1] 1405
504 poly식각을 위한 조언 부탁드립니다. file 1408
503 ESC Polymer cracking 제거를 위한 ISD 공정 문의 1416
502 O2 plasma etching 관련 질문이 있습니다. [1] 1423
501 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1425
500 MATCHER 발열 문제 [3] 1429
499 ICP lower power 와 RF bias [1] 1434
498 Ar plasma power/time [1] 1436
497 PECVD 공정 진행중 chamber wall 부분에서 보이는 plasma instability 관련 질문 드립니다. [1] 1441
496 N2 / N2O Gas 사용시 Plamsa 차이점 [1] 1442
495 강의를 들을 수 없는건가요? [2] 1445
494 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [1] 1450
493 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1454
492 알고싶습니다 [1] 1456
491 RF 케이블 발열 현상관련 문의 드립니다. 1456
490 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [1] 1459

Boards


XE Login