안녕하세요, 반도체 장비 회사에서 PECVD(TICL4 + H2 를 이용한 TI)설비를 개발하고 있는 엔지닝어입니다. 여기문의하는 것이 맞는 것인지 모르겠지만 일단 여쭤보겠습니다.


최근 고객사 측에서 PM 초기 TI 막질의 두께가 낮고 THK range 가 크다는 VOC 가 있어서 개선 방안을 고민하던 중에 precoat recipe 를 변경하는 test 를 진행하고 있습니다.  wafer 위에 depo 하는 recipe 는 그대로 두고 PM 후 CH 내부에 precoat 할 때 사용하는 recipe 만 변경하는 test 입니다.


변경 내용은 stage heater 와 showerhead 간 gap 을 변화시키는 것인데요, 기존 13.5mm 에서 11mm 로 gap 을 줄이니 thk range 가 감소하고 avg thk 가 높아지는 결과를 확인했습니다.


여기서 질문드립니다. depo recipe 도 아닌 precoat recipe 의 showerhead <-> heater gap 을 줄였는데 왜 막질의 두께와 산포가 바뀌는 것일까요?

rough 하게나마 가설을 세워보면 .....


 gap 을 줄임(1)

=> plasma 가 뜨는 공간의 부피가 감소했고(plasma 밀도는 증가?) (2)

=> heater 위에 precoating 되는 TI 막질 변화 (3)

=> wafer 가 depo 될 때 받는 heat 산포가 uniform 한 방향으로 바뀜 (4)

=> wafer 위에 depo 되는 막질의 thk avg, thk range 가 바뀜 (5)


이정도인데요, 어떻게 생각하시는지 궁금합니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76540
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
503 Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다. [1] 9509
502 에칭후 particle에서 발생하는 현상 9497
501 공기정화기, 표면개질, PDP. 플라즈마응용 9259
500 진공챔버내에서 플라즈마 발생 문의 [1] 9195
499 안녕하세요 교수님. [1] 8992
498 RF & DC sputtering에 대해 질문드립니다. [1] 8954
497 Sheath와 Darkspace에 대한 질문입니다. [1] 8903
496 수중플라즈마에 대해 [1] 8720
495 ICP와 CCP는 단순히 플라즈마를 생서하는 방법인가요? [1] 8660
494 N2 환경에서의 코로나 방전을 통한 이온생성에 대한 질문입니다. [1] file 8600
493 Lecture를 들을 수 없나요? [1] 8575
492 Bipolar, J-R Type Electrostatic Chuck 에서의 Discharge 원리가 궁금합니다. 8565
491 Microwave 장비 관련 질문 [1] 8561
490 핵융합에 대하여 8561
489 Ar Gas 량에 따른 Deposition Rate 변화 [1] 8559
488 상압 플라즈마에 관하여 문의 드립니다. [1] 8122
487 플라즈마 발생 억제 문의 [1] 8114
486 고온 플라즈마 관련 8090
485 RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] 8036
484 플라즈마 균일도에 대해서 질문드립니다. [1] 8022

Boards


XE Login