다른 질문사항에 Matcher 매칭회로에서 Load, Tune에 관한 설명을 봤는데요

공정을 진행하다보면 간헐적으로 Load, Tune 값이 바뀌며 Vpp drop이 발생합니다.

PEALD 장비에서 Load와 Tune 값에 영향을 미치는 요소들이 뭐가 있을지 궁금합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76726
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20174
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57166
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68696
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92275
489 MFP에 대해서.. [1] 7823
488 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7704
487 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7649
486 정전척 isolation 문의 입니다. [1] 7614
485 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 7224
484 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 7087
483 저온 플라즈마에 관해서 [1] 6647
482 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6569
481 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6568
480 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 6540
479 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6492
478 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6470
477 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6464
476 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6434
475 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6418
474 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6410
473 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6408
472 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6364
» Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6269
470 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6246

Boards


XE Login