Sheath Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다.

2017.08.03 10:57

세종 조회 수:9519

안녕하세요. 

저희 장비에서 RF는 상부와 하부로 나뉘어져 있고 하부 쪽에서 Vpp가 측정됩니다. 보통 이것과 Ion energy를 비례하게 해석하던데, 어떻게 연결 지어야 하는지 궁금합니다.

장비 설명에서 Vpp는 RF Matcher의 Position으로부터 도출되는 것이라고 설명되있었습니다.

즉 하부에서 RF reflect가 존재해야 Vpp가 계산된다는 것인데, 이것으로 어떻게 Ion Energy를 예상하는지...

일반적으로 입사되는 Ion이나 전자의 전하 움직임을 Reflect로 해석하는 것인가요?

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76714
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20170
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68695
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92273
488 MFP에 대해서.. [1] 7823
487 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7704
486 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7649
485 정전척 isolation 문의 입니다. [1] 7614
484 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 7224
483 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 7087
482 저온 플라즈마에 관해서 [1] 6646
481 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6569
480 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6568
479 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 6540
478 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6492
477 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6469
476 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6464
475 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6434
474 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6418
473 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6409
472 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6407
471 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6364
470 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6269
469 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6245
쓰기
태그

Boards

XE Login