현재, 스퍼터링 시스템에 대해 공부를 하고 있습니다.

자연스레 플라즈마에 대해 알아야 되더라고요.

근데 공부 중에 플라즈마에 관련된 여러 변수 또는 파라미터들을 알게 되었습니다.

그 중 제가 질문하고자 하는 변수는 RF 파워인데요

RF 파워가 커지면 이온 에너지도 커진다고 알고 있습니다.

이게 왜 그런지 알고 싶습니다!

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76727
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20189
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57167
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68699
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92278
489 MFP에 대해서.. [1] 7823
488 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7704
487 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7649
486 정전척 isolation 문의 입니다. [1] 7617
485 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 7226
484 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 7087
483 저온 플라즈마에 관해서 [1] 6648
482 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6576
481 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6569
480 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 6540
479 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6492
478 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6470
477 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6465
476 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6436
475 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6418
474 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6410
473 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6409
472 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6365
471 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6269
470 RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] 6247

Boards


XE Login