안녕하세요

반도체 설비 제조 업체 연구소에 근무 하는 하태경 이라고 합니다.

Plasma 진단 에 관련한 질문 있어 글을 씁니다.


저희 회사는 remote plasma를 사용하는 반도체 ashing 설비를 생산 하고 있습니다.

Plasma source는 ICP type 입니다. matcher에 VI sensor가 장착 되여 있습니다. matcher와 source 사이에 VI sensor가 위치합니다.

plasma source - baffle - process chamber 구조로 source에서 생성되는 radical의 down stream 으로 ashing를 진행 합니다.

chuck은 히팅외에는 다른 역할를 하지 않습니다.


여기서 질문은 VI sensor를 활용하여 어떠한 진단을 할 수 있는지가 궁금합니다.

현재 monitroing 해본 것으로는, end point를 보려 했지만 값이 변화하지 않습니다.. 케미스트리 변화에는 값이 변화 합니다.

VI sensor로 진단 가능한 부분이나 사례등이 있으시면 무엇이라도 좋습니다 답변 부탁 드립니다.

예로 PM 주기 monitoring 등도 좋은 아이템이 될것 같습니다.

감사합니다


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
483 MFP에 대해서.. [1] 7817
482 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7695
481 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7629
480 정전척 isolation 문의 입니다. [1] 7589
479 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 7157
478 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 7062
477 저온 플라즈마에 관해서 [1] 6620
476 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6569
475 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 6535
474 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6483
473 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6463
472 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6452
471 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6428
470 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6416
469 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6408
468 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6380
467 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6358
466 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6357
465 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6249
464 자료 요청드립니다. [1] 6201

Boards


XE Login