안녕하세요

반도체 설비 제조 업체 연구소에 근무 하는 하태경 이라고 합니다.

Plasma 진단 에 관련한 질문 있어 글을 씁니다.


저희 회사는 remote plasma를 사용하는 반도체 ashing 설비를 생산 하고 있습니다.

Plasma source는 ICP type 입니다. matcher에 VI sensor가 장착 되여 있습니다. matcher와 source 사이에 VI sensor가 위치합니다.

plasma source - baffle - process chamber 구조로 source에서 생성되는 radical의 down stream 으로 ashing를 진행 합니다.

chuck은 히팅외에는 다른 역할를 하지 않습니다.


여기서 질문은 VI sensor를 활용하여 어떠한 진단을 할 수 있는지가 궁금합니다.

현재 monitroing 해본 것으로는, end point를 보려 했지만 값이 변화하지 않습니다.. 케미스트리 변화에는 값이 변화 합니다.

VI sensor로 진단 가능한 부분이나 사례등이 있으시면 무엇이라도 좋습니다 답변 부탁 드립니다.

예로 PM 주기 monitoring 등도 좋은 아이템이 될것 같습니다.

감사합니다


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [128] 5588
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16862
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51344
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64191
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84170
391 Load position 관련 질문 드립니다. [1] 1951
390 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 1952
389 Wafer particle 성분 분석 [1] 1967
388 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 2002
387 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2003
386 플라즈마 방전을 위한 RF Power 공급시점에서의 반사파에 관해서 질문드립니다. [2] 2015
385 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 2048
384 안녕하세요. 교수님 ICP관련하여 문의드립니다. [2] 2055
383 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2065
382 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [2] 2066
381 수소 플라즈마 관련해서 질문이 있습니다. [3] 2088
380 RIE에 관한 질문이 있습니다. [1] 2118
379 Plasma etcher particle 원인 [1] 2143
378 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? 2146
377 plasma sheath 두께의 영향에 대하여 질문드립니다. [2] 2147
376 RF frequency와 다른 변수 상관관계 질문 2151
375 PE 모드와 RIE 모드에서 쉬스 구역에 대한 질문 [1] 2177
374 안녕하십니까 파워업체 연구원 입니다. (챔버쪽 임피던스 검출) [1] file 2184
373 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 2185
372 Edge ring 없이 ESC를 구현 가능한지 궁금해서 여쭤봅니다. [2] 2192

Boards


XE Login