Plasma in general plasma etching을 관련 문의드립니다.

2019.03.26 14:10

정제준 조회 수:2239


안녕하세요. 서울대학교 재료공학부 오규환 교수님 연구실 박사과정 정제준입니다.

SiC 샘플에 plasma etching을 하려고 하는데 CF4 or O2 플라즈마를 이용해서 실험을 해보려고 합니다.

1. 플라즈마 응용연구실에서 장비가 있다면 사용이 가능한지요?

2. SiC etching에 다른 플라즈마 소스를 추천해주신다면 어떤게 있을까요?

3. 장비가 없으시면 다른곳을 추천해주시면 감사하겠습니다.


감사합니다.

이 게시물을
목록
목록
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [182] 75017
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 18859
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56339
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 66840
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 88297
419 13.56MHz resonator 해석 관련 문의 [1] 1840
418 chamber impedance [1] 1843
417 가입인사드립니다. [1] 1845
416 CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계 [1] 1853
415 etching에 관한 질문입니다. [1] 1857
414 Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요? [1] 1873
413 임피던스 실수부에 대해 궁금한 점이 있습니다. [4] 1901
412 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] 1902
411 PRECOATING 공정에서 SHOWERHEAD <-> STAGE HEATER 간 GAP 과 DEPO 막질의 THK 와의 연관성.... [1] 1959
410 교수님 안녕하세요, icp 관련 질문이 있습니다. [2] 1963
409 CCP에서 전극에 쌓이는 막질에 의한 Capacitance 변화가 궁금합니다 [1] 1996
408 RPS를 이용한 SIO2 에칭 [1] 2031
407 CVD 공정에서의 self bias [1] 2059
406 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2062
405 플라즈마볼 제작시 [1] file 2071
404 양극 코로나 방전에 대한 질문입니다. [1] 2078
403 sputtering gas에 따른 플라즈마 데미지 [1] 2099
402 Wafer particle 성분 분석 [1] 2106
401 Si Wafer Broken [2] 2120
400 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리 [1] 2124
쓰기
태그

Boards

XE Login