질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
2010.11.25 15:38
플라즈마에 관심있으신 모든 분이 활용하고 플라즈마의 지식을 공유할수 있는 공간을 제공한다라는 원칙을 갖고 있습니다. 따라서 의견을 개진 하실 때는 자신의 이름을 분명히 밝혀주셔야 합니다. 그럼으로써 서로 알고 있는 플라즈마의 지식을 자유롭게 공유할 수 있을 것 입니다. 이 사항을 협조하여 주지기 바랍니다. 본인의 이름을 밝히지 않는 사람의 의견은 일주일 이내에 내용이 삭제됩니다.
댓글 3
| 번호 | 제목 | 조회 수 |
|---|---|---|
| 공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] | 5851 |
| 공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 17318 |
| 공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 53139 |
| 공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 64531 |
| » | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 85142 |
| 397 | 안녕하세요, 질문드립니다. [2] | 6500 |
| 396 | 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] | 6474 |
| 395 | 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] | 6366 |
| 394 | 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] | 6331 |
| 393 | 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] | 6330 |
| 392 | RF Power reflect 관련 문의 드립니다. [4] | 6288 |
| 391 | 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] | 6257 |
| 390 | 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] | 6239 |
| 389 | 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] | 6228 |
| 388 | 저온 플라즈마에 관해서 [1] | 6112 |
| 387 | RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] | 6101 |
| 386 | O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] | 6077 |
| 385 | 자료 요청드립니다. [1] | 6069 |
| 384 | O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] | 5913 |
| 383 | Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] | 5768 |
| 382 | OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] | 5716 |
| 381 | 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 | 5692 |
| 380 | RF calibration에 대해 질문드립니다. | 5427 |
| 379 | RPS를 이용한 NF3와 CF4 Etch Rate 차이 [4] | 5340 |