건식식각 방법에 크게 이온을 이용하는 스퍼터 식각과 라디컬을 이용하는 화학적 식각 그리고 이온, 라디칼 모두를 이용하는 RIE가 있는데 ICP와 CCP로 생성한 플라즈마를 이용해서 물리적,화학적,반응 이온성 식각을 진행하는것으로 이해하면 되는건가요?? 

차이점은 어떠한 가스를 넣느냐에 따라 물리적 식각만 이루어질수도 있고, 화학적 식각만 이루어질수도 있고, RIE식각만 이루어질 수도 있는건가요??

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76540
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68615
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91696
483 MFP에 대해서.. [1] 7817
482 플라즈마 쪽에 관심이 많은 고등학생입니다. [1] 7695
481 CCP에서 DIelectric(유전체)의 역활 [1] 7629
480 정전척 isolation 문의 입니다. [1] 7593
479 RF Generator와 Impedance 관련 질문있습니다 [2] 7160
478 ETCH 관련 RF MATCHING 중 REF 현상에 대한 질문입니다. [1] 7065
477 저온 플라즈마에 관해서 [1] 6620
476 안녕하세요, 질문드립니다. [2] 6569
475 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 6535
474 플라즈마 데미지에 관하여.. [1] 6484
473 저온플라즈마에 대하여 ..질문드립니다 ㅠ [1] 6464
472 플라즈마 건식식각 장비 부품 정전척 공정 진행 후 외각 He-hole 부위 burning 현상 매카니즘 문의.. [1] 6453
471 O2 plasma, H2 plasma 처리 관련 질문이 있습니다. [1] 6428
470 플라즈마 기술관련 문의 드립니다 [1] 6416
469 액체 안에서의 Dielectric Barrier Discharge에 관하여 질문드립니다! [1] 6408
468 안녕하세요. O2 plasma etching에 대해 궁금한 것이 있습니다. [1] 6387
467 O2 플라즈마 표면처리 관련 질문2154 [1] 6359
466 공동형 플라즈마에서 구리 전극의 식각 문제 [2] 6358
465 Matcher의 Load, Tune 영향을 미치는 요소가 궁금합니다. [2] 6251
464 자료 요청드립니다. [1] 6202

Boards


XE Login