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378 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5238
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369 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 4272
368 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4138
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366 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 3971
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362 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 3626
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