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431 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5517
430 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5310
429 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5307
428 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 5286
427 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 4956
426 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 4895
425 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 4768
424 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4585
423 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4195
422 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 4097
421 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [2] 3993
420 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 3982
419 the lines of magnetic  induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [1] file 3974
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