안녕하세요. CVD쪽에서 일하고 있는 신입사원입니다.

너무 궁금한게 있는데 CCP에서 파워가 증가 -> 전극의 전압증가 ->챔버내 전기장 증가 -> 챔버내 전자 가속

-> 전자밀도증가(2차전자 생성하므로) -> 플라즈마밀도 증가(전자뿐만아니라 이온, 라디컬 등등 생성되므로 )

-> 임피던스 감소


여기서 플라즈마밀도 증가시 왜 임피던스가 감소되는지 모르겠습니다.

그냥 단순하게 플라즈마 밀도 증가하면 전류가 잘통해서 임피던스가 감소한다고 생각해왔는데 다시생각하니 플라즈마 내부는

플라즈마밀도 증가시 전류가 더 잘흐른다고 보기보다는 

플라즈마밀도 증가시 분극이 더 잘되므로 임피던스가 낮아진다 고 봤는데


저희 선배님이 그건 아니라고 하셨거든요. 아무리생각해봐도 이부분의 메카니즘이 어떻게 되는지 모르겠습니다.


번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [220] 75432
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19168
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56480
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67563
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 89371
428 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] 785
427 Descum 관련 문의 사항. [1] 3462
426 RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] 565
425 Plasma Generator 관련해서요. [1] 872
424 Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] 1389
423 glass에 air plasma 후 반응에 대해 질문이 있습니다. [1] 419
422 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 5818
421 챔버 임피던스 변화에 따른 공정변화 [1] 1094
420 해수에서 플라즈마 방전 극대화 방안 [1] file 490
419 고전압 방전 전기장 내 측정 [1] file 988
418 RF 변화에 영향이 있는건가요? 17478
417 코로나 방전 처리 장비 문의드립니다. [1] 430
416 RIE 공정시에 형성되는 두 효과를 분리해 보고 싶습니다. [1] 776
415 코로나 전류가 0가까이 떨어지는 현상 [1] 679
414 etching에 관한 질문입니다. [1] 2039
413 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 3389
412 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5459
411 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5235
410 (PAP)plasma absorption probe관련 질문 [1] 447
409 Si Wafer Broken [2] 2260

Boards


XE Login