안녕하세요. 플라즈마응용연구실 관라자입니다.

 

금일부터 QnA 글을 작성하기 위해 등업제도를 일부 이용합니다.

 

해당 공지 게시글에 가입 인사를 적어주시면 QnA 글을 쓸 수 있는 권한을 받게 됩니다.

(*별도의 권한 처리 없이 댓글 등록시 바로 QnA 작성이 가능해집니다.)

 

글 작성 전에 반드시 댓글을 남겨주시고 QnA 글을 작성해주시기 바랍니다.

 

감사합니다.

 

** 기존에 글을 작성하셨던 분들도 권한 처리가 필요하므로 간단하게라도 댓글 부탁드립니다.

번호 제목 조회 수
» [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [318] 83325
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 22083
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 58847
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 70496
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 96639
505 부가적인 스퍼터링 관련 질문 드립니다. [라디컬의 화학반응성 및 DC 타깃 전극] [1] 1588
504 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [Matcher의 알고리즘] [1] 1590
503 Plasma Cleaning 관련 문의 [Remote plasma source] [1] 1592
502 Impedence 위상관련 문의 [Circuit model, matching] [1] 1593
501 rf chamber 내에 생기는 byproduct에 대한 질문 있습니다. [Byproduct와 gas flow, cleaning] [1] 1593
500 반도체 관련 플라즈마 실험 [Plasma experiment] [1] 1608
499 Plasma arcing 관련하여 문의드립니다. [플라즈마 내 전자 축적] [1] 1612
498 ICP-RIE etch에 관해서 여쭤볼것이 있습니다. [He 혼합비와 플라즈마 밀도] [1] 1622
497 플라즈마 관련 교육 [플라즈마 교육자료] [1] 1634
496 데포 중 RF VDC DROP 현상 [부유 전극의 self bias 형성] [1] 1640
495 알고싶습니다 [Seasoning, 플라즈마 공정 및 부품 표면 특성 데이터] [1] 1641
494 charge effect에 대해 [Self bias 및 capacitively couple] [2] 1668
493 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [Physical sputtering과 cleaning] [1] 1675
492 텅스텐 Etch 관련하여 질문드립니다. [표면 화학 반응] [1] 1678
491 ICP lower power 와 RF bias [Self bias, Floating sheath] [1] 1696
490 연속 plasma 방전시 RF power drop 및 Reflect 발생 [Cleaning procedure 플라즈마 공정진단 기술] [1] 1700
489 OES 분석 관련해서 질문드립니다. [Intensity 넓이 계산] [1] 1712
488 PECVD와 RIE의 경계에 대해 [DC bias 형성 판단] [1] 1716
487 N2, N2O Gas 사용시 Plasma 차이점 [N2 Plasma] [1] 1731
486 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [Breakdown과 impedance] [3] 1743

Boards


XE Login