안녕하세요 김곤호 교수님.

저는 RF 관련 업무를 하는 회사원입니다.

다름이 아니라 RF calibration에 대해 질문 드리고 싶은데요,

RF calibration의 원리와 mechanism이 어떻게 되는건가요?

Open, short, load 소자에 대한 측정값과 기본 응답 값 사이의 차이를 계산해서 보상한다, cable길이에 의한 위상차를 보정하고 주변 잡음에 의한 영향을 상쇄하는 과정이다.

 

정도만 알고 있고, 자세한 메커니즘은 찾아보기 힘들어 질문 드립니다. 그러다보니 캘리브레이션을 할 때 기계적으로 버튼을 누른다는 생각을 지울수가 없네요...

 

calibration 되는 메커니즘에 대한 설명 부탁드립니다!

더불어 고주파(수M~수백MHz) 수준의 주파수를 cal할때 주의점이 있다면, 주의점도 알려주시길 부탁드립니다

 

감사합니다. 새해복많이 받으십시오

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
463 플라즈마 입자 운동 원리(전자기장에서) [1] 1734
462 터보펌프 에러관련 [1] 1737
461 wafer 두께가 증가함에 따라 Er이 급격하게 떨어지는 현상 [1] 1770
460 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 1776
459 PECVD 증착시 온도, 기판의 종류의 영향에 대해서 질문드립니다! [1] 1783
458 N2 Blowing Ionizer 사용 시 궁금점 질문 드립니다. [1] 1791
457 매칭시 Shunt와 Series 값 [1] 1808
456 RF FREUENCY 와 D/R 과의 상관 관계에 관한 질문입니다. [1] 1828
455 ICP 내부 기체 비율에 따른 spectrum intensity 변화 [1] 1831
454 공정 진행 중간에 60Mhz만 Ref가 튀는 현상 관련하여 답변 정말 감사합니다! 1855
453 CVD CCP/ICP 사용간 Wafet Bias volt 줄어듬 현상 문의드려요 [1] 1861
452 RF PLASMA를 사용한 J.R ESC DECHUCK에 대하여 문의드립니다. [1] 1870
451 쉬스(sheath)에서 전자와 이온의 감소 관련하여 질문 [1] 1877
450 압력, 유량과 residence time에 대해 질문있습니다. [1] 1878
449 가입인사드립니다. [1] 1880
448 유도결합 플라즈마 소스 질문!!!? [2] 1889
447 RF generator 관련 문의드립니다 [3] 1889
446 Al Dry Etch 후 잔류 Cl 이온 제어를 위한 후처리 방법 [1] 1893
445 Remote Plasma 가 가능한 이온 [1] 1902
444 3 stub 정합에 대해 궁금합니다. [1] 1904

Boards


XE Login