안녕하세요~

Plasma로 Wafer에 위에 감광액의 Ashing하는 설비를 담당하는 구태영이라고 합니다.

현 장비는 M/W,RF와 O2,N2를 사용하여  Plasma를 생성하고 있습니다.

진공챔버 내에 Plasma 발생시 Wafer 주위에 분홍빛이 나며, 그 위에는 백색빛이 나면서 Plasma가 형성됩니다.

분홍빛은 Bias에 의한 Plasma 밀도랑 관련있다고 알고 있습니다.

여기서 제가 궁금한점 문의드리겠습니다.

1) 분홍빛이 띄는 곳이 Plama의 밀집 되어 있는 부분이 맞는가요?

2) 분홍빛과 백색빛의 차이를 알고 싶습니다.

3) Plasma에 의하여 Wafer에 Damage를 발생할 수 있는 부분을 알고 싶습니다.
번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [129] 5611
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 16908
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 51349
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64213
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 84234
372 임피던스 매칭회로 [1] file 2214
371 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 2215
370 VI sensor를 활용한 진단 방법 [2] 2229
369 dry etching중 온도, 진공도, glass상태에 따라 chucking force가 변화하는지요? [1] 2259
368 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 2293
367 HF+LF 사용 중. HF Power 증가 시 Deposition Rate 감소 현상 문의 [1] 2392
366 플라즈마 밀도 관련 문의 드립니다. [1] 2425
365 산소양이온의 금속 전극 충돌 현상 [1] 2443
364 PR wafer seasoning [1] 2446
363 HF/F2와 silica 글래스 에칭율 자료가 있을까요? 2480
362 플라즈마 압력에 대하여 [1] 2504
361 electron energy distribution에 대해서 질문드립니다. [2] 2547
360 Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] 2552
359 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 2566
358 Descum 관련 문의 사항. [1] 2605
357 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 2669
» M/W, RF의 Plasma에 의한 Ashing 관련 문의드립니다. [1] 2673
355 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 2678
354 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 2684
353 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 2712

Boards


XE Login