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[필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내
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Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법
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개인정보 노출 주의 부탁드립니다.
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kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수
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질문하실 때 실명을 사용하여주세요.
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플라즈마 띄울때..ㅠㅠ!!?
[1] | 1822 |
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3 stub 정합에 대해 궁금합니다.
[1] | 1835 |
435 |
가입인사드립니다.
[1] | 1864 |
434 |
잔류가스분석기(RGA)에 관하여 질문드립니다.
[1] | 1865 |
433 |
N2 Plasma 상태에 대해서 질문 드립니다.
[1] | 1895 |
432 |
13.56MHz resonator 해석 관련 문의
[1] | 1900 |
431 |
ECR 플라즈마에 대해서 질문 드립니다.
[1] | 1921 |
430 |
chamber impedance
[1] | 1941 |
429 |
doping type에 따른 ER 차이
[1] | 1945 |
428 |
플라즈마 관련 기초지식
[1] | 1991 |
427 |
플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다.
[1] | 2007 |
426 |
Ar과 O2 plasma source에 따른 ignition condition에 대하여 질문 있습니다.
[1] | 2021 |
425 |
DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다.
[1] | 2022 |
424 |
Dry etch 할때 센터와 사이드 etch rate
[1] | 2062 |
423 |
RF 주파수와 공정 Chamber 크기의 상관관계
[1] | 2066 |
422 |
RF/LF에 따른 CVD 막질 UNIFORMITY
[1] | 2076 |
421 |
CCP plasma에서 gap과 Pressure간의 상관관계
[1] | 2090 |
420 |
안녕하세요? 임피던스 매칭관련 질문드립니다.
[1] | 2091 |
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플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다.
[1] | 2095 |
418 |
Etch 공정 Dummy 사용이유가 뭔지 알 수 있을까요?
[1] | 2104 |
정의가 중요합니다. 고온과 저온은 우리가 생각하는 온도 범위와는 차이가 큽니다. 여기서는 주로 eV 에너지 단위를 사용해서 온도를 표시합니다. 일반적으로 온도는 플라즈마 전자의 온도로 가정해도 좋습니다.. 따라서 저온 플라즈마는 (<10eV) 정도의 전자의 열평형상태를 대표하는 온도이며, 이는 주로 산업용으로 쓰이는 플라즈마를 의미합니다. 전자에너지가 낮음은 플라즈마가 모두 이온화 되어 있지 않다는 의미이기 도하며, 이온화율을 1% 정도에서 10% 정도까지, 또는 그 미만으로 부분적으로 이온화된 상태 (partially ionization), 플라즈마 전자+이온+대부분의 중성입자 (라디털포함)으로 이뤄진 상태입니다. 반면 고온 플라즈마는 핵융합 플라즈마와 같이 전자 온도가 수십 keV를 넘는 플라즈마이며 이정도 온도를 가졌기에 대부분의 가스입자들이 완전히 이온화가 된 상태, fully ionization 상태를 의미하게 됩니다. 따라서 저온 플라즈마에서는 플라즈마의 물리적 특성과 함께 화학적 특성과 중성입자의 거동을 함께 고려해야 하며, 고온 플라즈마에서는 주로 물리적 특성과, 대부분이 자화된 상태로 구속되어 있으므로 자기장에서의 성질을 함께 고려해야 한다는 의미를 함축하고 있습니다.