안녕하세요. 반도체 관련 회사에 근무하는 엔지니어 입니다.


He Plasma 를 안정적으로 띄우려고 하는데 몇 가지 궁금한 점이 생겨 질문 드립니다.


1) 챔버에 He 외에 다른 gas는 넣지 않고 RF power를 인가했는데 plasma의 색이 아래와 같은 색을 내뿜었습니다.

https://i.ytimg.com/vi/5XPwfbeogi0/hqdefault.jpg

하지만 인터넷에서 찾아본 He plasma의 색은 이 색 외에도 붉은색과 연한 주황색도 있었습니다. 그리고 제가 공장 견학중에 보았던 He plasma의 색은 연한 주황색에 가까웠었습니다.(그때 역시 챔버 내에는 He gas만 있었습니다.)

이상하게 여겨 생각해봤는데, 전자가 여기된 후 n=2인 전자궤도에 떨어질때 빛이 방출되는 것이니 전자가 더 큰 에너지를 받거나 더 적은 에너지를 받아 여기되었다면 다른 색이 나올 수도 있을거라 생각했습니다.

하지만 그렇다면 Gas별로 고유한 plasma색이 있다고 알고있던 사실과 충돌하여 어느 것이 맞는지 궁금합니다.


2) He외에 N2도 같이 넣어 plasma를 띄우니 아래와 같은 색이 나타났습니다.

https://edu.glogster.com/library/proxy?url=https%3A%2F%2Fupload.wikimedia.org%2Fwikipedia%2Fcommons%2F1%2F1f%2FHeTube.jpg

기존에 제가 공장에서 봤던 He plasma 색도 이 색이었는데 왜 N2가 들어가고나서 이런 색이 나오는지 궁금합니다.


3) 질소 플라즈마의 경우에도 알아보니 다양한 색이 나오던데 혹시 DC 인지 RF인지 RF라면 주파수에 따라서도 색이 바뀔 수 있는건가요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] 76712
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20168
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57164
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68690
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92262
468 자료 요청드립니다. [1] 6205
467 O2, N2, Ar 플라즈마에 대한 질문입니다. [2] 6173
466 모노실란(SiH4) 분해 메카니즘 문의 6068
465 코로나방전, 이온풍 관련 문의 드립니다. [1] file 5991
464 OES를 활용한 excitation temperature 분석 질문입니다. [1] 5926
463 안녕하세요. ICP 플라즈마의 임피던스를 측정하는 방법에 대해서 문의를 드립니다. [3] 5899
462 SiO2를 Etching 할 시 NF3 단독 보다 O2를 1:1로 섞을시 Etching이 잘되는 이유 [1] file 5834
461 RF calibration에 대해 질문드립니다. 5806
460 RF Vpp 관련하여 문의드립니다. [1] 5676
459 ESC Chuck 기능이 Wafer 위에서의 Chemical Bond 생성을 boosting 할 수 있는지 궁금합니다. [1] 5518
458 DRAM과 NAND에칭 공정의 차이 [1] 5452
457 SiO2 식각 위한 Remote Plasma Source관련 질문 드립니다. [1] 5265
456 RF power에 대한 설명 요청드립니다. [1] 5146
455 매쳐에서의 load, tune에 대하여 좀 가르쳐 주세요~ [1] 5063
454 CCP 설비에서 Vdc, Vpp과 Power에 대해 문의드립니다. [1] file 4911
453 Sheath 길이와 전자의 온도 및 MFP간의 관계에 대해 질문 드립니다. [1] 4800
452 챔버내 Arcing 발생 개선안에 대해 질문드립니다. [3] 4481
451 ESC 사용하는 PVD 에서 Center tap bias의 역할 4318
450 Dry Etching Uniformity 개선 방법 [2] 4266
449 플라즈마 색 관찰 [1] 4253

Boards


XE Login