Sheath Ion Energy와 RF matchin관련 질문입니다.
2017.08.03 10:57
안녕하세요.
저희 장비에서 RF는 상부와 하부로 나뉘어져 있고 하부 쪽에서 Vpp가 측정됩니다. 보통 이것과 Ion energy를 비례하게 해석하던데, 어떻게 연결 지어야 하는지 궁금합니다.
장비 설명에서 Vpp는 RF Matcher의 Position으로부터 도출되는 것이라고 설명되있었습니다.
즉 하부에서 RF reflect가 존재해야 Vpp가 계산된다는 것인데, 이것으로 어떻게 Ion Energy를 예상하는지...
일반적으로 입사되는 Ion이나 전자의 전하 움직임을 Reflect로 해석하는 것인가요?
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] | 76540 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20076 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57115 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68613 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 91695 |
443 | Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] | 555 |
442 | Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] | 1655 |
441 | 염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다. [1] | 389 |
440 | magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] | 469 |
439 | 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? | 2318 |
438 | Pecvd 장비 공정 질문 [1] | 1637 |
437 | CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] | 1318 |
436 | DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] | 2247 |
435 | Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] | 3394 |
434 | RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] | 650 |
433 | RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] | 1176 |
432 | 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] | 2089 |
431 | 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... | 480 |
430 | 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] | 581 |
429 | 자기 거울에 관하여 | 1130 |
428 | 플라즈마 장치 관련 기초적 질문입니다. [1] | 818 |
427 | Descum 관련 문의 사항. [1] | 3698 |
426 | RPC CLEAN 시 THD 발생 [1] | 629 |
425 | Plasma Generator 관련해서요. [1] | 905 |
424 | Plasma 발생영역에 관한 질문 [2] | 1448 |
실명을 쓰시고, 해당 내용은 self bias (혹은 DC bias) 관련 내용을 공부하시면 이해가 쉬우실 것입니다. 관련해서 본 계시판에 설명이 수록되어 있으니 참고하시면 도움이 될 것입니다. 아울러 장비 matcher에서 Vpp 값이 어느 지점의 값인가를 면밀하게 살펴볼 필요가 있습니다. Matcher 제공사에서 상세한 정보를 제공할 것으로 기대합니다.