Sheath 부도체를 타겟으로 한 플라즈마 형성 원리
2015.05.09 12:46
저는 최근 반도체 증착장비에 대해 공부하다 플라즈마에 대해 궁금증이 생겨서 질문을 남깁니다.
스퍼터링법에서 플라즈마 발생 원리는 챔버내에 가스를 주입하고 타겟(도체)에다 DC전원으로 음전압을 가해주어 타겟이 음극이 되게되고
음극이 된 타겟에서 전자들이 튀어나와 가스들과 충돌하고 가스들이 전자의 에너지를 받아 이온화가 되어 양이온과 전자로 나눠지게 되는 플라즈마 상태가 형성되는걸로 알고 있습니다.
하지만 도체인 타겟말고 부도체인 타겟을 사용하게 될때는 DC말고 RF파워를 사용을 한다고 하는데
타겟이 도체인 경우 음전압을 가해주면 전자의 이동이 쉬워 음극이 되게되고 이 음극이 된 타겟에서 전자들이 나와 가스와 충돌하여 플라즈마가 되는데
타겟이 부도체인경우 RF파워로 음전압 가해주어도 전자의 이동이 쉽지가 않으니 음극이 되지 않아 전자가 방출이 되지 않아서 플라즈마가
생성이 되지 않는다고 생각이 되는데 어떻게 해서 타겟이 부도체인데 플라즈마가 형성이 되는지 궁금해서 질문을 드립니다.
번호 | 제목 | 조회 수 |
---|---|---|
공지 | [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [268] | 76727 |
공지 | Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 | 20183 |
공지 | 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. | 57167 |
공지 | kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 | 68699 |
공지 | 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] | 92278 |
449 | 수중방전에 대해 질문있습니다. [1] | 501 |
448 | [CVD] 막 증착 관련 질문입니다. [4] | 1295 |
447 | RPS를 이용한 유기물 식각장비 문의 [1] | 756 |
446 | 플라즈마용사코팅에서의 carrier gas [1] | 804 |
445 | RF MATCHING 관련 교재 추천 부탁드립니다 [1] | 854 |
444 | RF tune position 과 Vrms의 관계가 궁금합니다 [1] | 968 |
443 | Frequnecy에 따라 플라즈마 영역이 달라질까요? [1] | 558 |
442 | Ar/O2 ICP 플라즈마 관하여 [1] | 1660 |
441 | 염소발생 전기분해 시 스파크 발생에 관해 질문드립니다. [1] | 390 |
440 | magnetic substrate와 플라즈마 거동 [3] | 472 |
439 | 플라즈마 세라믹코팅후 붉은 이유는? | 2327 |
438 | Pecvd 장비 공정 질문 [1] | 1661 |
437 | CCP 챔버 접지 질문드립니다. [1] | 1324 |
436 | DRY Etcher Alram : He Flow 관점 문의 드립니다. [1] | 2316 |
435 | Gas 별 Plasma 색 관련 질문입니다. [1] | 3444 |
434 | RF magnetron sputtering시 플라즈마 off현상 [1] | 666 |
433 | RF Generator 주파주에 따른 Mathcer Vrms 변화. [1] | 1191 |
432 | 플라즈마 self bias 값과 압력, 파워의 상관관계에 대해 질문이 있습니다. [1] | 2127 |
431 | 산소 플라즈마에 대한 질문입니다... | 487 |
430 | 수중 속 저온 플라즈마 방전 관련 질문 드립니다 [2] | 589 |
읽어 보시고 계시는 플라즈마 책에서 self-bias에 대한 내용을 찾아 보십시오. 혹은 Rf bias 로도 설명이 되어 있습니다. 본 게시판에서도 이 내용이 설명 되어 있으니 참고하세요.