안녕하세요,

재료공학과 연구실에서 연구를 하고 있는 대학원생입니다.

항상 좋은 답변 해주셔서 많은 도움을 받고 있습니다.


제가 이번에 Arcing 관련 이슈를 공부하고 있는데,


1. DC plasma에서의 arcing과 RF plasma에서의 arcing사이에 어떤 차이가 있는지 궁금합니다.

그리고,

2. RF plasma에서 발생하는 arcing을 줄일 수 있는 방법에는 어떠한 것들이 있는지도 궁금합니다.


감사합니다.



번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [220] 75427
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 19166
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 56480
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 67559
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 89369
408 Depo시 RF 초기 Reflect 관련하여 문의드립니다. [1] 1306
407 I-V characteristic에 관하여 질문이 있습니다. [1] 1182
406 플라즈마 기초에 관하여 질문드립니다. [1] 902
405 플라즈마 깜빡임에 대해 질문이 있습니다. [1] 2007
404 OES 원리에 대해 궁금합니다! [1] 24965
403 Collisional mean free path 문의... [1] 722
402 Etch공정(PE mode) Vpp 변동관련. [1] 2145
401 플라즈마 색 관찰 [1] 3828
400 플라즈마 장비를 사용한 실험이 가능할까요 ? [1] 14104
399 langmuir probe관련하여 질문드리고 싶습니다. [1] file 916
398 DC Plasma 전자 방출 메커니즘 961
397 플라즈마에 관해 질문 있습니다!! 24094
396 MATCHER 발열 문제 [3] 1335
395 플라즈마 기초입니다 [1] 1220
394 O2 플라즈마 클리닝 관련 질문 [1] 1472
393 CCP에서 전자밀도증가 -> 임피던스 감소 과정 질문있습니다. [3] 1472
392 플라즈마 실험을 하고 싶은 한 고등학생입니다.... [1] 1552
391 PR wafer seasoning [1] 2615
390 플라스마 상태에서도 보일-샤를 법칙이 적용 되나요? [1] 6508
389 플라즈마 기본 사양 문의 [1] 585

Boards


XE Login