안녕하세요.

CVD 공정 엔지니어로 근무 중인데, 전공과 무관한 업무를 하다보니 막히는 경우가 많은데 교수님께 많은 도움을 받고 있습니다. 감사합니다.

다름이 아니라 SiO2 박막 Depo 후, F 입자를 이용하여 Clean을 진행하는데 박막 밀도가 높을 수록 Clean의 효율이 감소하는 결과를 확인했습니다.

제가 추정하는 이유는 두 가지 인데, 제가 추정하는 이유가 맞는지 교수님의 전문적인 견해가 궁금하여 글을 작성합니다..

 

 1) 막질 밀도가 낮을 수록 막질이 phorous하여 빈 공간으로 Radical이 침투하기 용이하여 반응성 증가

 2) 막질 밀도가 낮을 수록 같은 두께의 박막 내 SiO2 분자수가 적기 때문에 제거해야 할 SiO2 분자수가 적어 Clean 효율 증가

 

항상 감사합니다.

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [143] 5816
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 17283
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 53105
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 64496
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 85109
358 Descum 관련 문의 사항. [1] 2764
357 Plasma 에칭 후 정전기 처리 [3] 2770
356 Bias 관련 질문 드립니다. [1] 2787
355 RF plasma 증착 시 arcing 관련하여 질문드립니다. [1] 2795
354 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 2806
353 코로나 방전의 속도에 관하여... [1] 2814
352 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 2841
351 PP & PET 친수성과 접착성 유지 질문입니다. [1] 2910
350 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 2962
349 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3033
348 ESC Cooling gas 관련 [1] 3039
347 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3041
346 Etcher Chamber Wall에 의도적으로 Polymer를 증착시키고 싶습니다. [2] 3056
345 아르곤이나 기타 플라즈마 토치에 소량의 수증기를 집어넣으면 온도가 떨어지는 현상에 대해서 3080
344 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 3115
343 RPSC 관련 질문입니다. [2] 3179
342 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3180
341 플라즈마 색 관찰 [1] 3263
340 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3441
339 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3548

Boards


XE Login