안녕하세요. 반도체 관련 회사에 근무하는 엔지니어 입니다.


He Plasma 를 안정적으로 띄우려고 하는데 몇 가지 궁금한 점이 생겨 질문 드립니다.


1) 챔버에 He 외에 다른 gas는 넣지 않고 RF power를 인가했는데 plasma의 색이 아래와 같은 색을 내뿜었습니다.

https://i.ytimg.com/vi/5XPwfbeogi0/hqdefault.jpg

하지만 인터넷에서 찾아본 He plasma의 색은 이 색 외에도 붉은색과 연한 주황색도 있었습니다. 그리고 제가 공장 견학중에 보았던 He plasma의 색은 연한 주황색에 가까웠었습니다.(그때 역시 챔버 내에는 He gas만 있었습니다.)

이상하게 여겨 생각해봤는데, 전자가 여기된 후 n=2인 전자궤도에 떨어질때 빛이 방출되는 것이니 전자가 더 큰 에너지를 받거나 더 적은 에너지를 받아 여기되었다면 다른 색이 나올 수도 있을거라 생각했습니다.

하지만 그렇다면 Gas별로 고유한 plasma색이 있다고 알고있던 사실과 충돌하여 어느 것이 맞는지 궁금합니다.


2) He외에 N2도 같이 넣어 plasma를 띄우니 아래와 같은 색이 나타났습니다.

https://edu.glogster.com/library/proxy?url=https%3A%2F%2Fupload.wikimedia.org%2Fwikipedia%2Fcommons%2F1%2F1f%2FHeTube.jpg

기존에 제가 공장에서 봤던 He plasma 색도 이 색이었는데 왜 N2가 들어가고나서 이런 색이 나오는지 궁금합니다.


3) 질소 플라즈마의 경우에도 알아보니 다양한 색이 나오던데 혹시 DC 인지 RF인지 RF라면 주파수에 따라서도 색이 바뀔 수 있는건가요?

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [265] 76539
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20076
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57115
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68613
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 91695
443 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4126
442 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4121
441 the lines of magnetic  induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [1] file 3977
440 RPSC 관련 질문입니다. [2] 3968
439 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3949
438 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3914
437 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3858
436 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3857
435 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3761
434 Descum 관련 문의 사항. [1] 3698
433 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3672
432 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 3658
431 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3637
430 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3622
429 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3615
428 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3558
427 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3552
426 ESC Cooling gas 관련 [1] 3514
425 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3498
424 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3490

Boards


XE Login