안녕하세요.


저는 CVD로 탄소화합물을 합성하는 일을 하고 있습니다만, 진공장치, 플라즈마에 대해서는 전공분야가 아니다 보니 원천기술이 많이 부족합니다.


알곤 분위기의 CVD장비로 수소와 탄소 등의 가스를 사용하여 탄소화합물을 만들때 챔버 내부의 오염이 공정에 영향을 주는 것으로 파악되고 있는데, 추정하기를 챔버 내부의 산소 또는 수분의 영향으로 짐작하고 있습니다.

1. 챔버의 진공도를 어느 정도 낮추어야 산소나 수분의 영향을 거의 없도록 할 수 있을까요? 물론 UHV까지 낮추면 좋겠지만, 통상 10 -6승에서 10 -3승까지 운용하고 있는데, 이 정도의 진공도에서 산소나 수분의 영향이 어떤지 모르겠습니다.


2. 완전한 고진공(UHV)로 내리는 것 말고 산소나 수분을 효율적으로 제거하는 방법이 있는지요?

3. 챔버 내벽에 산소나 수분이 붙어 있다고 해도, 챔버 내부로 떨어져 공간에 있지 않다면(물론 내벽에서 떨어지면 공간에 있겠지만, 진공을 계속 뽑는중이라 제거가 되지 않는지?) 챔버 내부의 샘플에 영향을 줄지 아니면 외부로 배출되는 확률이 높은지 알 수 있을까요? 

번호 제목 조회 수
공지 [필독] QnA 글 작성을 위한 권한 안내 [266] 76692
공지 Q&A 검색 길잡이 – 내게 필요한 정보를 더 빠르게 찾는 방법 20152
공지 개인정보 노출 주의 부탁드립니다. 57159
공지 kr 입자 조사에 의한 Cu 스퍼터링 에너지 및 이탈 속도 분포 함수 68681
공지 질문하실 때 실명을 사용하여주세요. [3] 92218
447 RF chamber에서.. particle(부유물) 와 RF reflect power연관성 [1] 4166
446 SiO2 박말 밀도와 반응성 간 상관 관계 질문 [1] 4138
445 RPSC 관련 질문입니다. [2] 4004
444 the lines of magnetic  induction are frozen into the perfectly conducting material에 대한 질문 [1] file 3977
443 Plasma 식각 test 관련 문의 [1] 3963
442 ICP plasma에서 RF bias에 대한 문의가 있습니다 [2] 3949
441 Deposition 진행 중 matcher(shunt,series) 관계 질문 [3] 3902
440 HF + LF 사용 중, LF와 POWER와의 관계에 대한 질문입니다. [1] 3890
439 DC스퍼터링과 RF스퍼터링에서의 처음 전자의 출처와 처음 이온의 생성 질문 [2] 3797
438 RIE에서 O2역할이 궁금합니다 [4] 3749
» 진공장치 챔버내 산소 또는 수분 제거 방법에 대해 [1] 3740
436 Descum 관련 문의 사항. [1] 3717
435 Vpp, Vdc 측정관련 문의 [1] 3684
434 CCP/ICP 의 플라즈마 밀도/균일도 에 대해서 질문이 있습니다. [3] 3679
433 ICP-RIE process 및 plasma에 대해 질문있습니다. [2] 3641
432 플라즈마 임피던스와 Vpp가 관련이 있나요? [1] 3609
431 방전에서의 재질 질문입니다. [1] 3556
430 ESC Cooling gas 관련 [1] 3524
429 CCP 구조가 ICP 구조보다 Arcing 발생에 더 취약한가요? [3] 3523
428 Plasma Etch시 Wafer Edge 영향 [1] 3514

Boards


XE Login